네덜란드 ASML회사 공장구역（法新社）

5월 19일 중국 창쟝 춘추 공사(长江存储,창쟝메모리공사)가 자기들의 첫번째 마스크 얼라이너(Mask Aligner)를 끝내 맞이했다. 황금보다도 더 귀중한 7200만 달러 가치의 이 설비가 5월 19일 중국 우한 텐허 공항(武汉天河机场)에 도착했다. 외계는 글로벌 최대 칩 메이커, 네덜란드 ASML회사(Advanced Semiconductor Material Lithography,선진반도체 재료 인쇄회사)의 큰 물건의 도착을 중국 칩 기술의 중요한 돌파로 보고 있다. 

기쁜 소식은 또 있다. 며칠전 소식통의 말을 인용한 일본 닛케이 아시안 리뷰(Nikkei Asian Review)보도에 따르면 중국 칩 가공기업, 중신국제공사(中芯国际,SMIC)도 같은 기업, 네덜란드ASML회사를 향해 그들의 첫번째 가장 선진적인 EUV(Extreme Ultraviolet Lithography,컴퓨터 첨단 자외선 반도체인쇄기)를 주문했는데 가치가 1.2억 달러에 달한다.

소식에 따르면 중신국제의 지난해 순이윤 전부에 상당한 이 설비는 2019년 초반에 납품하게 된다.

5월 19일 중국 창쟝 춘추공사의 첫번째 마스크 얼라이너가 우한 텐허공항에 도착했다.

마스크 얼라이너란 무엇인가? 

마스크 얼라이너란 무엇인가? 이처럼 값비싼 원인인가?

5월 22일 홍콩 밍보(明报)보도에 따르면 마스크 얼라이너, 일명 인쇄회로기판 용 노광장치(曝光机)는 대규모 집적회로 생산의 핵심 설비로서 이 시설의 작용은 칩 웨이퍼(Wafer)를 스캐닝 노광하며 집적회로를 에칭하는 것이다. 이 설비의 제조와 보수는 고도로 되는 광학과 전자 공업기초를 수요하는데 현재 세계적으로 소수 기업들만이 장악하고 있다. 그러므로 마스크 얼라이너의 가격은 매우 높은데 일반적으로 3천만 내지 5억 달러등 여러가지이다. 현재 비록 닛콘(Nikon), 카논(Canon) 등 적수들도 겨우 경쟁하는 상황이다.

그러나 필립스회사(Philips )로부터 독립한ASML회사는 90%이상의 고위 급별의 마스크 얼라이너 시장을 장악하고 있다. 마스크 얼라이너는 정밀도가 높을 수록 나노 미터 사이즈가 작고 기능이 더욱 강대한 마스크 얼라이너를 생산할 수 있다. 

세계 최신적이고 가장 선진적은 2개 세대 고급별 마스크 얼라이너 분야 즉 침몰식(Immersion)과 첨단 자외선식(EUV)의 마스크 얼라이너로서 전부 회사가 핵심기술을 장악하고 있다.

보도에 따르면 5나노미터보다 더 작은 칩 웨이퍼는 현재EUV마스크 얼라이너만이 생산할 수 있다.

삼성전자와 타이완 타이지덴(台积电) 즉 타이완 지티 회로 제조 홀딩즈 유한공사(台湾积体电路制造股份有限公司)는 현재 7나노미터의 칩 생산기술을 서로 경쟁하고 있는데 이 두 회사도 모두 ASML회사의 EUV마스크 얼라이너를 주문했다.

현재 미국 애플사(Apple Inc.)의 아이폰X(iPhone X)와 아이폰8(iPhone 8)시리즈 핵심 처리기 칩은 타이완 타이지덴공사의 10나노미터 기술을 채용했는데 올해 새로 출범하게 되는 신형 아이폰(iPhone)은 7나노미터 기술을 사용하게 된다. 

이렇게 보면 마스크 얼라이너가 칩 기술에 대해 결정적 영향을 일으키고 있다.

5月19日，长江存储终于盼来了自己的首台光刻机。当天中午，这台价值7200万美元、比黄金还金贵的设备，运抵了武汉天河机场。这台来自全球最大的芯片设备制造商——荷兰阿斯麦公司（ASML）的大家伙的到来，被外界看做中国芯片技术的重要突破。

好消息不止一个。就在几天前，据《日经亚洲评论》15日援引消息人士的话称，中国芯片加工企业中芯国际（SMIC）也与同一家企业——荷兰阿斯麦公司订购了其首台最先进的EUV（极紫外线）光刻机，价值1.2亿美元。消息称，这台几乎相当于中芯国际去年全部净利润的设备，将于2019年初交付。

5月19日，长江存储首台光刻机运抵武汉天河机场。

光刻机为何物？

光刻机为何物？为何如此金贵？

香港《明报》5月22日报道称，光刻机（又称曝光机）是生产大规模集成电路的核心设备，其作用是扫描曝光芯片晶圆，刻蚀集成电路。制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此光刻机的价格昂贵，通常在3000万至5亿美元不等。目前，虽然尼康、佳能等对手都在勉力竞争，但是自飞利浦独立的阿斯麦公司掌握了90%以上的高端光刻机市场份额。精度愈高的光刻机，能生产出纳米尺寸愈小、功能更强大的芯片。

世界最新最先进的两代高端光刻机领域，即浸入式（Immersion）和极紫外线式（EUV）光刻机，全部由阿斯麦掌握核心技术。报道称，小于5纳米的芯片晶圆，目前只能用EUV光刻机生产。三星电子和台积电目前正竞争生产7纳米工艺技术芯片，这两家都订购了阿斯麦公司的EUV光刻机。目前，苹果iPhone X和iPhone 8系列的核心处理器芯片，采用的是台积电10纳米工艺技术，而今年即将推出的新款iPhone将使用7纳米工艺技术。

由此可知，拥有光刻机对芯片工艺的实现有着决定性的影响。

荷兰阿斯麦公司厂区。

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