[데일리연합 류아연기자] 미국 정부가 기술과 지식재산의 유출을 우려해 중국인 유학생들의 입학 문턱을 높이려는 움직임을 보이고 있다고 로이터가 보도했습니다 보도에 따르면 트럼프 행정부는 미국 대학에 입학하는 중국인 유학생들에 대해 통화 기록, 소셜미디어 계정 조사 등 사전 신원조사를 추가하는 방안을 검토하고 있다.

앞서 미 국무부는 지난 6월 항공, 로봇공학, 첨단제조 분야를 전공하는 중국인 대학원생들의 비자 유효기간을 5년에서 1년으로 단축하는 등 중국 유학생들에 대한 규제를 강화했다.

자국 유학생 규제 강화조치에 대해 중국 측은 "글로벌 시대에 제로섬 게임을 하려 하고 국민들의 왕래를 방해하려는 시도는 인심을 얻지 못해 실패할 것"이라고 비난했다.

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